En els darrers anys, la tecnologia dels semiconductors s'ha desenvolupat ràpidament i la demanda de tàntal utilitzat com a pel·lícula sputtered ha augmentat gradualment. En els circuits integrats, el tàntal es col·loca entre conductors de silici i coure com a barrera de difusió. Mètodes de producció perescampant objectius de tàntalinclouen la metal·lúrgia del lingot (I/M) i la metal·lúrgia de pols (P/M). Els objectius de tàntal amb requisits més baixos estan fets generalment de lingots de tàntal. No obstant això, en alguns casos amb requisits més alts, no es pot utilitzar el mètode I/M i el mètode de la metal·lúrgia en pols només es pot utilitzar per produir-lo. Per exemple, el mètode I/M no pot produir objectius d'aliatge a causa dels diferents punts de fusió de tàntal i silici i la baixa duresa dels compostos de silici.
Les substàncies que contaminen el dispositiu semiconductor no han d'estar presents en la formació de la pel·lícula. Quan es forma la pel·lícula de sputtering, si hi ha impureses a l'objectiu de tàntal (aliatge, compost), les impureses s'introduiran a la cambra de sputtering, provocant que les partícules gruixudes s'uneixin al substrat i curtcircuiti el circuit de pel·lícula fina. Al mateix temps, les impureses també poden ser el motiu de l'augment de partícules de protuberància a la pel·lícula fina. Els gasos impurs com l'oxigen, el carboni, l'hidrogen i el nitrogen a l'objectiu provocaran fenòmens anormals i provocaran problemes en la uniformitat de la pel·lícula formada. A més, per al mètode de la metal·lúrgia en pols, la uniformitat de la pel·lícula dipositada és una funció de la mida del gra a l'objectiu, i com més fi sigui el gra a l'objectiu, més uniforme serà la pel·lícula obtinguda. Per tant, hi ha una necessitat en l'art de pols de tàntal d'alta qualitat i objectius de tàntal. Per tant, per obtenir pols de tàntal i objectiu de tàntal d'alta qualitat, cal reduir el contingut d'impureses de la pols de tàntal i augmentar la puresa de la pols de tàntal.
Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. pot produirpols de tàntalde diferents mides de partícules. Sota la premissa de garantir una alta qualitat, la nostra empresa compta amb una gamma completa de pols metàl·liques de tàntal, que poden satisfer les necessitats de diversos clients en recerca i desenvolupament, proves, producció, consum, etc.
