1. Ús d'un magnetró per pulveritzar
Hi ha tres tipus de sputtering de magnetrons: radiofreqüència, freqüència intermèdia i sputtering DC.
R. La densitat de la pel·lícula de deposició és baixa i la font d'alimentació de pols de corrent continu és barata. Normalment, les bateries fototèrmiques domèstiques i de pel·lícula fina opten per emprar la tècnica, ja que requereix poca energia i utilitza metall conductor com a objectiu de pols.
B. L'energia de la polverització de RF és bastant alta. Es pot utilitzar un objectiu conductor o un objectiu no conductor com a objectiu de pulverització.
C. Es pot utilitzar un objectiu de metall o ceràmica com a objectiu de pulverització de freqüència mitjana.

2. Classificació i ús de dianes de pulverització
Els objectius de sputtering tenen una varietat de formes i mides, i no tots es classifiquen de la mateixa manera. Es poden classificar en objectius llargs, objectius quadrats i objectius rodons segons la forma, i en objectius metàl·lics, objectius d'aliatge i objectius fets de compostos ceràmics basats en la composició. Es pot separar en dianes ceràmiques vinculades a semiconductors, dianes ceràmiques per a suports d'enregistrament, dianes ceràmiques per a pantalles, etc. basades en diferents dominis d'aplicació. Els sectors electrònics i de la informació, inclòs l'emmagatzematge d'informació, són els principals usuaris dels objectius de pulverització. En aquest negoci es creen discos durs, capçals magnètics, discos òptics i altres productes de pel·lícula fina relacionats amb objectius de pulverització.

Actualment. El mercat d'enregistrament d'objectius ceràmics mitjans està experimentant un augment de la demanda a causa del creixement continu de la indústria de la informació, i la investigació i desenvolupament de la gravació d'objectius mitjans estan rebent ara molta atenció als mitjans.